【LBT烘箱】光刻胶涂覆基板适合怎样的烘箱设备
作者：admin 日期：2016-08-06 16:50 属于：行业知识
光刻胶也叫液体光致抗蚀剂或简称湿膜，是国外九十年代初发展的一种新型感光材料。随着表面贴装技术（SMT）和芯片组装技术（CMT）的发展，对印制板导线精细程度的要求越来越高，光刻胶已经逐渐成为主角，其应用工艺流程为：基板前处理-涂覆-烘烤-曝光-显影-干燥-蚀刻或电镀-去膜，需要用到光刻胶烘箱工序有两道，对光刻胶烘箱设备的选择也非常重要，烘烤方式有烘道和烘箱两种。用烘箱时，烘箱一定要带又鼓风和恒温控制，以使各部位温度比较均匀，烘烤时间应在烘箱达到设定温度时开始计算。控制好烘烤温度和时间很重要。烘烤温度过高或时间过长，将难以显影和去除膜层，而烘烤温度过低或时间过短，在曝光过程中底版会沾在抗蚀剂涂盖层上，揭下来时底版易受到损伤。
烘烤的温度和时间，不同型号的液体光致抗蚀剂有不同的要求，可参照说明书和具体生产实践来确定。
为使膜层有优良的抗蚀抗电镀能力，显影后最好干燥，干燥条件是100°C，1-2分钟，干燥后膜层硬度可达2H。
全国十大品牌烘箱之一的莱宝机电科技有限公司，专业生产工业烘箱，高温烘箱，洁净烘箱，隧道式烘干炉等系列。可根据您的实际需求为您企业量身订做各类非标烘箱，想了解更多详情请直接电话联系我们 0769-22781561
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